Le nanoETCH est une machine compacte dotée d’un étage de gravure au plasma à uniformité élevée et d’une alimentation électrique RF pour la génération du plasma. À l’origine, cet outil a été développé en collaboration avec le groupe de recherche sur le graphène à l’Institut national du graphène de l’Université de Manchester, au Royaume-Uni. Son développement a été motivé par le besoin au sein de la communauté scientifique d’un outil de gravure permettant une gravure précise des matériaux bidimensionnels sensibles, ce qui n’était pas possible avec les outils de gravure par attaque ionique réactive (RIE) conventionnels.

Caractéristiques :

• Disponible en deux configurations : la gravure douce, idéale pour les travaux délicats avec le graphène et les matériaux bidimensionnels, et les plasmas à base de fluor pour les applications nécessitant une approche plus “agressive”.
• Diamètre maximal de porte-substrat:  3 pouces (75 mm), 4 pouces (100 mm) ou 6 pouces (150 mm).