Recuit sous vide à haute température pour les substrats plans, jusqu’à 1000 °C, avec un contrôle précis du gaz et de la pression, le tout dans un ensemble compact. Les systèmes de recuit sous vide ANNEAL de Moorfield sont spécialement conçus pour le traitement thermique des matériaux bidimensionnels (2D) et des wafers dans des environnements atmosphériques contrôlés. Pour le recuit sous atmosphère contrôlée, les systèmes ANNEAL peuvent être équipés d’un maximum de 3 régulateurs de débit massique (MFC). Les gaz typiques sont Ar, O2 et N2, et les débits à pleine échelle sont flexibles. Tous les systèmes sont équipés de jauges de mesure à large échelle, mais pour une meilleure précision, des jauges capacitives sont également disponibles. Si la pression de la chambre est critique, un contrôle automatique de la pression est disponible avec des résolutions de contrôle jusqu’à 0,1 mbar. Les systèmes ANNEAL sont très modulaires et peuvent être configurés pour une large gamme d’applications. Les substrats sont posés face vers le haut sur des plateaux situés au centre d’une chambre à vide poussée en acier inoxydable équipée d’un blindage thermique approprié et d’un hublot avec shutter. Technologie de chauffage utilisée :

• Lampe à quartz : Cette technologie utilise des lampes à quartz pour générer un rayonnement IR. Il s’agit d’un moyen de chauffage économique pour des températures de substrat allant jusqu’à 600 °C et compatible avec la plupart des atmosphères.
• Composite carbone-carbone (CCC) : Lorsque des températures de substrat supérieures à 500 °C sont requises, les éléments CCC sont utilisés dans des atmosphères non compatibles avec l’oxygène. Ils peuvent être chauffés jusqu’à 1000 °C.
• Graphite revêtu de SiC : Lorsque des températures élevées et une résistance à l’oxygène sont requises, les éléments en graphite sont recouverts d’une couche résistante de SiC.
• La résolution du contrôle du chauffage est de ±1 °C.