Système CVD compact pour la synthèse rapide et à la demande de graphène de haute qualité. Technologie entièrement automatisée à paroi froide pour réduire la contamination et les coûts de fonctionnement, tout en améliorant le contrôle des

Caractéristiques principales

• Système de dépôt en phase vapeur (CVD) ultra-compact, format paillasse
• Synthèse reproductible de graphène de haute qualité
• Contrôle précis des conditions
• Température maximale de 1100 °C
• Temps de traitement <30 minutes
• Taille maximale du substrat 20 × 40 mm2
• Entièrement automatique
• Interface homme-machine conviviale à écran tactile
• Définition/sauvegarde de plusieurs recettes de croissance
• Connexion PC pour l’enregistrement des données
• Équipé pour un entretien facile
• Caractéristiques de sécurité complètes
• Compatible avec les salles blanches
• Des performances éprouvées