Machines PVD
BT Electronics, fournisseur exclusif de MOORFIELD NANOTECHNOLOGY sur la France.
MOORFIELD NANOTECHNOLOGY fabrique et développe des machines de dépôts allant de la R&D à la production industrielle à petite échelle.
Une machine PVD (Physical Vapor Deposition) est un équipement de traitement de surface utilisé pour déposer des couches minces de matériaux sur des substrats tels que le métal, le verre, la céramique et les polymères. Le processus de PVD implique la vaporisation d'un matériau de départ, tel que l'or, l'argent, le titane, l'aluminium ou le chrome, en utilisant une source de chaleur ou un plasma, puis la condensation de la vapeur sur la surface du substrat.
Les machines PVD sont utilisées dans une grande variété d'applications, notamment dans la production de revêtements décoratifs et fonctionnels, tels que les couches anti-reflets, les couches conductrices, les couches d'usure, les couches de barrière et les couches de lubrification. Les applications typiques incluent l'industrie des semi-conducteurs, l'industrie automobile, l'industrie des bijoux, l'industrie médicale et l'industrie des outils de coupe.
Les machines PVD sont disponibles dans une gamme de tailles et de configurations, allant des petites machines de laboratoire aux grandes installations industrielles. Les machines PVD sont souvent utilisées en combinaison avec d'autres processus de traitement de surface, tels que la gravure chimique, la pulvérisation cathodique, la gravure plasma et le traitement thermique pour produire des revêtements de surface de haute qualité.
MiniLab
MiniLab 026
Les systèmes MiniLab 026 sont des évaporateurs sous vide de taille réduite qui se posent au sol et disposent de chambres à ouverture pratique en forme de coquille. Ils sont adaptés à la déposition de métaux, de diélectriques et d'organiques par le biais des techniques d'évaporation et de pulvérisation.
MiniLab 060
La plateforme la plus populaire de notre gamme MiniLab, les systèmes MiniLab 060, possèdent des chambres de type boîte à chargement frontal, idéales pour la pulvérisation magnétron à sources multiples, mais également pour l'évaporation thermique et par faisceau électronique.
MiniLab 080
Les systèmes MiniLab 080 sont équipés de chambres spacieuses, idéales pour les techniques d'évaporation thermique, LTE et par faisceau électronique qui nécessitent des distances de travail plus longues pour obtenir une uniformité optimale.
MiniLab 090
Les systèmes MiniLab 090 sont conçus pour être compatibles avec les boîtes à gants, ce qui les rend adaptés aux applications sensibles à l'atmosphère. Leur chambre spacieuse est idéale pour une évaporation de haute performance, mais ils offrent également la possibilité de réaliser une pulvérisation magnétron.
MiniLab 125
Les équipements MiniLab 125 poussent le concept modulaire à un niveau pilote. Les chambres spacieuses permettent d'utiliser des ensembles de composants de plus grande taille pour le revêtement de surfaces étendues, tandis qu'une gamme d'options de sas de chargement permet un fonctionnement à haut débit. De plus, ces systèmes sont entièrement personnalisables.
nanoETCH
Le nanoETCH est un outil de table doté d'un étage de gravure au plasma à uniformité élevée et d'une alimentation électrique RF pour la génération du plasma. À l'origine, cet outil a été développé en collaboration avec le groupe de recherche sur le graphène à l'Institut national du graphène de l'Université de Manchester, au Royaume-Uni. Son développement a été motivé par le besoin au sein de la communauté scientifique d'un outil de gravure permettant une gravure précise des matériaux bidimensionnels sensibles, ce qui n'était pas possible avec les outils de gravure par attaque ionique réactive (RIE) conventionnels.
Actuellement, le nanoETCH est disponible en deux configurations : la gravure douce, idéale pour les travaux délicats avec le graphène et les matériaux bidimensionnels, et les plasmas à base de fluor pour les applications nécessitant une approche plus agressive.
Les outils nanoETCH peuvent être équipés de plateformes pour des substrats d'un diamètre maximal de 3 pouces (75 mm), 4 pouces (100 mm) ou 6 pouces (150 mm).
Aujourd'hui, les outils nanoETCH sont installés dans des laboratoires de recherche renommés sur le graphène et les matériaux bidimensionnels, tels que l'ICFO (Espagne), le Cambridge Graphene Centre et l'Institut national du graphène du Royaume-Uni.
nanoPVD
nanoPVD-S10A
Il s'agit d'un système de pulvérisation magnétron RF et DC de paillasse conçu pour les métaux et les matériaux isolants. Malgré sa compacité comparable à celle d'un revêtement pour microscopie électronique, il est équipé d'un matériel de pointe qui garantit des résultats de qualité correspondant aux exigences de recherche.
nanoPVD-S10A-WA
Le nanoPVD-S10A-WA est une configuration à large surface qui offre des fonctionnalités supplémentaires par rapport au nanoPVD-S10A, permettant ainsi un revêtement homogène des substrats jusqu'à 8 pouces de diamètre, le tout dans un format compact de paillasse. Grâce à la pulvérisation magnétron RF et DC, il est possible de déposer à la fois des métaux et des matériaux isolants.
nanoPVD-ST15A
Le modèle ST15A permet de combiner les techniques d'évaporation et de pulvérisation au sein d'une seule chambre de processus. Cela offre une grande flexibilité de recherche dans un format de paillasse automatisé.
nanoPVD-T15A
Ces emballages compacts offrent des métaux haute performance et une évaporation organique, parfaitement adaptés à une utilisation sur une paillasse. Ils offrent des performances supérieures et efficaces, ce qui les rend idéaux pour la recherche sur les OLED, les OPV et les OFET.
nanoCVD
nanoCVD-8G
Il s'agit d'un système CVD de graphène de paillasse qui permet une synthèse rapide et à la demande de graphène de haute qualité. Grâce à sa technologie de paroi froide entièrement automatisée, il offre une réduction de la contamination et des coûts de fonctionnement, tout en permettant un contrôle amélioré des conditions.
nanoCVD-8N
Il s'agit d'un système CVD compact, prêt à l'emploi et évolutif, conçu pour la synthèse à haut débit de nanotubes de carbone, avec une performance éprouvée.
nanoCVD-WG(P)
Il s'agit d'un système CVD (dépôt chimique en phase vapeur) plasma compact, amélioré, conçu pour la synthèse rapide de graphène de haute qualité à l'échelle des plaquettes.
nanoEM
Les unités sont équipées de chambres en acier inoxydable, de systèmes de pompage turbomoléculaire, de magnétrons circulaires refroidis à l'eau pour un fonctionnement continu, ainsi que d'une alimentation électrique de pulvérisation de précision (DC ; jusqu'à 300 W) en standard, le tout dans un format compact de paillasse qui permet de gagner de l'espace.
Elles sont conçues pour une utilisation facile et une vitesse de revêtement élevée, ce qui les rend idéales pour la préparation courante d'échantillons TEM/SEM (par exemple, avec pulvérisation d'or et/ou de carbone). Cependant, grâce à leurs composants haut de gamme et leur compatibilité avec les cibles conventionnelles, les possibilités sont infinies.
ANNEAL
Les systèmes de recuit sous vide ANNEAL de Moorfield sont spécialement conçus pour le traitement thermique des matériaux bidimensionnels (2D) et des plaquettes dans des environnements atmosphériques contrôlés.
Edwards e306
Notre équipe d'ingénieurs hautement expérimentés est spécialisée dans la rénovation, la réingénierie et l'entretien de votre unité.
Nous proposons également des pièces de rechange couramment utilisées. Nous sommes en mesure de travailler avec la plupart des configurations système, y compris les unités configurées pour l'évaporation thermique ou par faisceau d'électrons, ainsi que la pulvérisation magnétron.